HDI avèg antere twou sikwi tablo mikwo twou pwosesis teknoloji

Nov 11, 2025 Kite yon mesaj

1, Apèsi sou HDI avèg antere tablo sikwi twou ak micropores
(1) Karakteristik HDI avèg antere tablo sikwi twou

LaHDItablo sikwi twou avèg antere anpil amelyore dansite fil elektrik, diminye gwosè a ak pwa nan tablo sikwi a, ak amelyore pèfòmans elektrik nan twou avèg (twou ki pwolonje soti nan sifas la nan yon pwofondè sèten men pa antre nan kouch enteryè a) ak twou antere (twou ki sitiye nan kouch enteryè a konekte diferan sikwi kouch enteryè) teknoloji. Sa a se kalite tablo sikwi lajman ki itilize nan aparèy elektwonik tankou smartphones, tablèt, ak segondè -sèvè fen, satisfè demann modèn aparèy elektwonik la pou estrikti kontra enfòmèl ant ak gwo -transmisyon siyal vitès.

(2) Enpòtans mikropor yo
Mikwo pò yo refere a ti porositë ki gen yon dyamèt mwens pase 0.1mm, ki se eleman debaz yo pou reyalize gwo -interconnexion dansite nan tablo sikwi HDI. Mikwo porositë ka reyalize plis koneksyon elektrik nan espas limite, fè chemen transmisyon siyal pi kout ak pi efikas, diminye reta ak pèt transmisyon siyal, ak amelyore pèfòmans an jeneral nan aparèy elektwonik. Pou egzanp, nan ekipman kominikasyon 5G, aplikasyon an nan yon gwo kantite mikropor asire transmisyon ki estab nan gwo -siyal vitès, satisfè kondisyon ki strik nan kominikasyon 5G pou gwo -frekans ak gwo -siyal pwosesis.


2, Pwosesis endikap nan pwosesis mikwo twou
(1) Teknoloji perçage lazè

Prensip: Perçage lazè se pwosesis pou itilize yon gwo -reyon lazè dansite enèji pou iradyasyon materyèl la nan yon tablo sikwi, sa ki lakòz materyèl la imedyatman vaporize oswa fonn, kidonk fòme mikropor. Kalite lazè komen yo enkli lazè iltravyolèt, lazè gaz kabonik, elatriye. Akòz longèdonn ki pi kout li yo, lazè iltravyolèt gen pi wo dansite enèji ak pi bon pèfòmans konsantre, sa ki fè li apwopriye pou trete gwo -presizyon, ti micropores ouvèti ak reyalize gwo -pwosesis micropore sou divès kalite materyèl.

Avantaj: Teknoloji perçage lazè gen gwo fleksibilite epi li ka fè pwosesis mikwo twou sou divès kalite tablo sikwi ki gen fòm konplèks san yo pa limite pa pwosesis mekanik. Li gen yon vitès pwosesis rapid epi li ka pwodwi yon gwo kantite mikropor nan yon kout peryòd de tan, ki fè li apwopriye pou pwodiksyon gwo -echèl. Anplis, perçage lazè gen yon enpak minimòm tèmik sou materyèl ki antoure, efektivman diminye domaj tèmik nan miray twou a epi asire bon jan kalite a ak presizyon nan mikropor.

Ka aplikasyon: Nan pwodiksyon HDI cartes pou smartphones, teknoloji perçage lazè lajman itilize pou kreye yon gwo kantite mikwo twou ak ouvèti ant 0.05mm -0.1mm, reyalize fil elektrik wo dansite nan mèr la ak satisfè kondisyon yo koneksyon elektrik ant chips anpil ak konpozan andedan telefòn nan.

 

news-379-451

 

(2) Teknoloji perçage mekanik
Prensip: Perçage mekanik itilize yon ti dyamèt fè egzèsis pou koupe materyèl la nan tablo sikwi a atravè wotasyon gwo -vitès, kidonk perçage mikwo twou. Pwosesis sa a se menm jan ak metòd perçage tradisyonèl yo, men mande pou presizyon ekstrèmman wo nan ti jan an fè egzèsis ak estabilite nan zouti nan machin.

Avantaj: Teknoloji perçage mekanik relativman senp, ak pri ki ba, e li gen sèten avantaj pou pwosesis mikwo twou ak dyamèt twou relativman gwo (tankou 0.08mm -0.1mm) ki pa mande pou presizyon twou patikilyèman wo. Nan sèten sitiyasyon espesifik, perçage mekanik ka konbine avèk lòt teknik pwosesis pou reyalize pri-efikasite.

Limitasyon: Perçage mekanik gen sèten limit akòz limitasyon an dyamèt nan ti jan egzèsis la ak enfliyans nan fòs koupe, ki fè li difisil nan pwosesis ti porositë (mwens pase 0.05mm). Anplis de sa, pandan pwosesis la, pwoblèm tankou mi twou ki graj ak burrs yo gen tandans rive, ki mande pou polisaj ki vin apre ak tretman, ogmante koule nan pwosesis ak pri.

 

(3) Plasma grave pwosesis
Prensip: Pwosesis plasma plasma itilize gwo -patikil enèji nan plasma pou sibi reyaksyon chimik ak materyèl tablo sikwi, retire materyèl ki pa vle epi fòme mikropor. Pandan pwosesis la grave, vitès la ak pwofondè nan grave ka jisteman kontwole pa kontwole paramèt yo nan plasma a, tankou kalite gaz, presyon, pouvwa, elatriye.

Avantaj: Plasma grave teknoloji ka reyalize gwo -pwosesis mikwo twou ak presizyon, ak mi twou lis, pa gen burrs, bon selektivite materyèl, epi li ka fè grave egzak sou diferan kouch materyèl. Espesyalman apwopriye pou senaryo aplikasyon ki gen kondisyon trè wo pou bon jan kalite miray twou, tankou ankadreman sikwi HDI pou sikui RF segondè -.

Dezavantaj: Pwosesis sa a gen gwo depans ekipman, pwosedi pwosesis konplèks, ak efikasite pwodiksyon relativman ba, ki limite aplikasyon li sou yon gwo echèl. Anplis, grave plasma gen kondisyon anviwònman strik epi li mande pou ekipman tretman gaz echapman espesyalize.